イオン注入装置

枚葉式高電流イオン注入装置 SHX-III/S

世界ではじめてビームスキャンとメカニカルスキャンの組み合わせを採用し、高精度?高品質かつ高いビーム電流での極低エネルギーイオン注入を可能にしたSHXシリーズの最新コンパクトモデル。

特長

  • 300mmウェハに対応。
  • 次世代プロセスへの適用。
  • エネルギー範囲
    • 最?。?.2keV
    • 最大:60keV
  • 量産対応の200eV高ビーム電流。
  • 高速搬送系による高生産性。
  • フットプリントの最小化に寄与するコンパクト設計。
  • ウェハ全面にわたるビームサイズおよびビーム発散角の均一性、高度のビーム平行度および再現性を実現。
  • 極低エネルギーにおける高度のエネルギー純粋性を確保。
  • メタルコンタミネーションおよびクロスコンタミネーションを極小化。
  • ウェハ帯電を防止する優れたプラズマシャワーシステム。
  • 高信頼性、容易なメンテナンス。
  • 他工程によって生じた不均一を補正し、工程全体の生産性?歩留まり向上に寄与するMINDシステム。

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